韩国先进科学技术研究院（KAIST）化学和生物分子工程学系的一个研究团队在Shin-Hyun Kim教授的领导下开发出了一种新型光刻技术，该技术主要通过氧扩散来控制形成功能性形状的微型图案。
光刻技术也被称作光学光刻或UV光刻，其一些基本原理与摄像也有相似之处，主要都是通过投影曝光形成图案。它其实是一个标准方法，即通过在光阻材料层的曝光将微型图,转印到衬底上，如今这种方法已经在半导体工业中得到广泛使用。
不过在此之前，这一技术只能用于二维的设计，这是由于曝光区域和顶部区域之间的边界是与光源的方向平行的。
然而，通过由Kim教授和他的团队在对光刻技术的研究中发现，他们发现，暴露在UV光下的区域氧气浓度会降低，并导致氧气的扩散。通过控制氧气的扩散速度和方向可以操纵其整体成型过程，包括聚合物的形状和大小。
根据这一研究结果，研究团队发明了一种基于光刻原理的新技桑它能够利用氧的存在制造出微型三维结构。该技术主要利用氧气浓度的差异引起氧气到uv光照射区域内的扩散。最终，通过在这一过程中抑制剂的使用使得能够制造出复杂的微型3D结构。
由Kim教授和他的团队发明的这项新技术可以用于改进3D聚合物的制造工艺梢郧昂芏嗳巳衔它很难用于商业用途。
“虽然3D打印被认为是一种创新型的制造工艺，但它不能被捎诖蠊婺Ｖ圃煳⒐鄄品。”金教授说。“这种新型光刻技术将会在学术界和工业级产生广泛的影响，因为现有的，传统的光刻设备可以用于发展更为复杂的微型结构。”
