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CREO高级阵列实例解析

2022-02-09    作者:落枫之影    来源:网络文摘

一.阵列的定义

    通过重复复制、改变某一个(或一组)特征的指定尺寸,根据设定的变化规律和数量,自动生成一系列具有参数相关性的特征(组)。
在CREO 软件中,阵列的s式有以下八种:
1.尺寸阵列:需选取特征尺寸,并指定这些尺寸的增量变化以及阵列中特征实体数。
2.方向阵列:需选取平整面、线、轴来定义方向,同时也可以使用特征尺寸增量来控制阵列实体的形状及位置的变化。
3.轴阵列:通过围绕一个选定的旋转轴(基准轴等)创建特征副本的阵列方式。
4.填充阵列:指定的物体表面或部分表面区域,生成均匀的阵列。
5.表阵列:使用表格的方式设定阵列特征的空间尺寸和本身尺寸。
6.参考阵列:借助已有的阵列实现新阵列的方法,参考阵列操作对象必须与已有阵列的源实体有定位尺寸关系。
7.曲线阵列;指定阵列成员间距离或成员个数,来沿着草绘曲线创建其阵列特征。
8.点阵列:通过创建基准点或草绘几何点来创建其阵列特征。
温馨提示:
1.阵列特征不能直接使用【删除】命令来删除,因为这样会连你的原始特征也一起删掉,如果要9留原始特征,请使用【删除阵列】命令来删除
2.阵列预览中的黑点代表要进行阵列的位置,单击黑点将其变成白点,表示此位置不需要阵列。
3.若阵列的特征有多个,需将这些特征编组,然后再进行阵列
二.CREO 软件阵列操作4面
三.需要使用关系来控制阵列时,你会用到以下符号
    memb_v - 指定方向中的关系驱动最终尺寸
    memb_i - 指定方向中的关系驱动增量
    lead_v - leader 值(选择尺寸确定方向)
    idx1 -阵列实例索引在第一方向(代表当前实例特征在阵列中的位置,其值从
    0 开始,第一方向第一个实例特征idx1=0,第五个实例特征idx1=4)
    idx2 -阵列实例索引在第二方向(同上,只是方向不同而已)
    不能 同一关系中使用memb_v 和memb_i,这些符号所代表的含义我将会在下面的这些实例中详细说明。
四.实例解析
1.随形阵列
解析:阵列成员的高度随曲线的波动而变化,技巧就在于草绘特征截面时让其与曲线连系起来。
A.先草绘一条曲线
B.选择拉伸工具,在原草绘平面中绘制矩形截面
C.直接阵列拉抻特征即可。
刚才上面讲到的是到曲线,下面这种则是到面面,操作更简单。
解析:直接拉伸到选定曲面,然后阵列即可,这里就不做详细说明了,只要注意一下草绘截面与参考基准的位置尺寸。


2.方向阵列及轴阵列
    相信很多朋友都见到过此题,现在我就重点讲解如何阵列完成上图的台阶S
解析:整个楼梯台阶呈360 度旋转,高度从圆柱最使低位置到最高位置,题目解法很多,无论解法多少,思路都一样,一个旋转角度和一个高度变化。
方法一:轴阵列+高度尺寸增量(注意此高度尺寸必须为位置尺寸,如果你选择楼梯板的厚t作为高度尺寸增量,那么每一级台阶厚度为叠加尺寸,这种效果相对于图片上的来还是比较现实,但我们要的是图片效果)在这里,我新建的一个基准面,然后在基准面上绘制台阶,最后再使用轴阵列,通过阵列基准面的位置尺寸来控制台阶高度变化,完成如下图(建议将创建基准面的工t放在拉伸台阶的特征内完成)
方法二:方向阵列+角度尺寸增量(还是一样,角度尺寸必须是位置尺寸,方能完成上图效果)d152 是一个角度定位尺寸,其值为360*5/100=18 度(100 为圆柱的高度,5 是台阶的高度)如下图所示。
在使用阵列尺寸的时候,我们必须清楚知道自己阵列的尺寸是位置尺寸的还是形状尺寸,位置尺寸只控制阵列后成员位置的变化,而形状尺寸则会改变成员的原始外形。
3.关系阵列(尺寸阵列)
    关系阵列是本次阵列教程中的重点,以下讲解内容都是比较常见的,包含尺寸阵列、数字阵列、行为建模中刻度的阵列以及字符串阵列。
A.尺寸阵列(关系应e)
解析:此题是两个方向阵列,
    第一方向特征呈波形曲线排布且圆柱直径由大到小,高度由低到高。第二方向特征呈直线均匀排布,无论直径大小,高度都一样再看下图
第一方向的尺寸
A.控制圆柱呈曲线排布的尺寸1(初始值为50),这里需要用到参数
B.控制圆柱直径变化的尺寸3 (初始值为30)
C.控制圆柱高度变化的尺寸4(初始值为20)
D 控制圆柱第一方向间距大小的尺寸2(初始值为40)
第二方向的尺寸
A.控制圆柱在第二方向间距大小的尺寸1(初始值为50)
选中尺寸1,勾选【按关系定义增量】输入关系式memb_v=lead_v+25*sin(45*idx1)现在我们一起来看一下这个关系式的意思。
Memb_v 前面有记载是关系驱动最终尺寸的参数符号,lead_v 是导引尺寸参数符号,就是你选取的原始尺寸值,比如说此题我选择尺寸d282,而d282 原始尺寸值为50,那么在此尺寸下编辑的关系中,lead_v 值恒为50。你可以将lead_v 改为50,其结果是不会发生变化,25*sin(45*idx1),其中25是振幅,Idx1 是阵列实例在第一方向的位置,比如说第二个阵列实例吧,那么它的最终尺寸值是50+25*sin(45*1),也就是说第二个圆柱的圆心到板的边缘尺寸值为50+25*sin(45*1)。
为了方便大家理解,在这里我用一简图来表达这些符号的意思。
B.数字阵列
解析:本题难点在于数字的变化及均匀排布在圆周之上,方法有很多,这里介绍一种常规的解题思e
e入草绘,在草绘中设置字符符参数
    使用文本工具,将文体行设为使用参数
尺寸阵列,如下图所示。
在钟表表盘上的数字除了圆形排布外,还有一种方形排布的,那又该如何解决呢?
解析:要完成上图数字阵列,需借助参考曲线,让数字只能绕参考曲线均布。
    草绘一条曲线,如下图所示
    在这里我们要将此曲线合并成一条曲线链,你可以使用造型或者复制工具完成
温馨提示:启用复制工具的方法是:
选中草绘曲线——在草绘曲线上点击至加粗——Ctrl+C  开复制面板使用先前草绘平面,再次进入草绘平面,选取复制曲线作为参考,在其上输入文本,将文本行改为使用参数(详细可参考上例)
使用关系,在关系窗口中输入a=itos(floor(sd0/30))(此关系式控制数字变化)完成草绘后,阵列即可
完成后,如下图所示
C.关于刻度阵列
C.关于刻度阵列
解析:此题难点在于控制刻度长短,由于这些刻度一端在圆周上,而另一端变化有规律,因此我们需绘制两个构造圆,通过控制构造圆直径的变化来更改刻度长短先草绘一条刻度
再阵列这个刻度
关系式并不难理解,这里不作详细解释行为建模中也有使用阵列来绘制刻度
解析:这道题目主要通过分析工具,测量瓶体体积,然后在其上按实p体积标上刻度关于行为建模内容,三言两语无法说清楚,所以只讲解阵列刻度部分,其实方法同上例一样。
先选取一个平面草绘第一条刻度
然后将刻度投影到瓶子表面,再将刻度草绘和投影编组阵列
4.曲面U-V 线阵列
解析:此例是在曲面的UV 线交点上阵列出高度不等的圆柱体。边界混合平面与填充平面的UV 线是不相同的。填充平面的UV 线是相互垂直直线,所以在这里我使用边界混合来绘制平面。
a.在同一个平面上草绘四条曲线(分开草绘)
b.使用边界混合工具,创建平面
c.选择造型工具,创建两条曲面上的曲线,按下图设置其软件位置
接着选择相切控制面板,将约束更改为沿U 方向(如果你更改的是另一条曲线,那么就将约束设置为沿V 方向)
再选择曲线的另一端点,按下图修改软点参数
然后就是切点约束
另一条曲线也是同样设置,就不重复讲解了。
d.确定退出造型工具后,然后在这两条曲线交点处拉抻一个直径为30mm 的圆柱
将造型与拉抻特征编组,为阵列作准备
e. 阵列,选择尺寸阵列,将UV 两条曲线分别作为阵列的两个方向,在第一方向选择U 曲线的两端软点参数值,如果参数值为0.1,那么增量设置为0.1,如果参数值为0.9,那么增量值设置为-0.1(其软点e数值的取值范围为0~1),,在第二方向选择V 曲线的两端软点参数值,增量设置方法和U 曲线一样。将两个方向阵列成员数均设为9。
    在此阵列中我还在第一方向加入了高度的关系变化,第二方向加入直径的增量。
    很大 度上提高了阵列的难度。足够让人深思!
    第一方向中圆柱高度添加了关系memb_v=10+idx1*idx2*2
    确定并退出阵列。
    此题方法并不是唯一的,下面为大家介绍另一种方法获取UV 线
a 还是同一平面上分别草绘4 条曲线。(参考第一种方法)
b.选择一条d绘曲线,在其上创建基准点
c.选择此曲线相邻曲线,在其上创建另一基准点。
d.使用修剪工具,将曲线从基准点处断开。
e.使用边界混合创建平面
    UV 线已经创建完毕,下面的工作就是在其交点处绘制圆柱,再将其阵列即可。
    详细请参考第一种方法。
5.表阵列
解析:此题有点难度,主要是表格的制作有些繁琐,我们要通这个表格再给阵列成员指定位置。需要注意的是阵列成员形状没有发生变化只是位置变动而已,所以在草绘时注意位置尺寸的标注。
A.创建一个基准面(最好用TOP 面创建偏移基准面,当时自己做此题没注意,选了RIGHT 面作为偏移参考,结果肯定是没有什么影响,当你点标准方向的时候就很头痛啦)
B.选择刚创建的基准平面作为拉伸特征的草绘平面,绘制如图截面
C.然后将基准平面和拉伸特征打包编组,再使用阵列工具
选择编辑表格,在表格中输入正方体的位置尺寸
其实这个表格不难理解
    我们可以把这三个尺寸理解为三维空间中的XYZ 轴,D1137 就是Z 轴,D1172和D1171是XY 轴。当这三个值均为0 时,那么此点就是这个三o空间的坐标原点。
    如果这个没有问题的话,那么下面这一个呢?
解析:同上题做法一样,一个基准平面和一个拉伸特征再加上表阵列完成
1.创建基准平面,参考选择TOP 平面。
2.在刚创建的基准平面上拉伸边长为99 的正方体,草绘截面如下图所示
3.编组阵列
编辑表格
6.填充阵列
填充阵列的操作界面,如下图所示
    CREO 软件提供了6 种填充排列方式,分别是正方形、菱形、六边形、圆形、螺旋形、沿曲线,所以其应用范围比较广,操作比较简单填充阵列的应用
解析:最常规的解法:在圆形薄板上填充正六边形孔,然后使用钣金p的成型工具完成(以前做此题时我是在实体中阵列孔后,再转到钣金中冲压,所以才有上图的模型树,其实根本没这个必要,可直接在钣金件中完成)
1.创建平面壁,绘制直径为500 的圆形截面。厚度为2mm
2.在平面壁上任意位置裁剪出一个正六边形孔(填充i列不需考虑初始特征的位置)
3.使用填充阵列。
4.使用成型工具(曲于冲压的形状特殊,所以我们要自己绘制一个冲孔模型,如下图所示)
使用自定义的冲孔模型来冲压零件
    再看下一例,此例也是通过填充阵列完成的
解析:球面上的小正方体,可以使用偏移工具完成,然后面使用填充阵列即可。
1.点选已绘制好直径为100 的球体表面,使用偏移工具
2.选择偏移特征,阵列
    映射到曲面空间:阵列导引被直接投影到曲面上,阵列成员会从草绘平面映射到曲面空间,曲面间距与草绘间距匹配。
    按照投影:阵列导引和阵列成员直接投影到曲面,间距不会进行调整,不能投影到曲面上的阵列成员将会从阵列中移除映射到曲面UV 空间:阵列成员会从草绘平面映射到曲面的UV 空间
7.曲线阵列
    曲线阵列操作界面,如下图所示
曲线阵列同填充阵列中的沿曲线排列类似,操作比较简单。
此例是临时做教程的时候随手画的,目的在于讲解曲线阵列的应用。
解析:本例涉及到的知识点有曲线方程、变截面扫描、随形曲线阵列。
A.输入我们所要的星形曲线方程(你也可以在草绘中绘制一个星形曲线)
B.新建基准d面,在平面上草绘两个圆
C.使用变截面扫描工具。
草绘截面,d合关系函数。
D.使用拉伸工具,绘制一个直径为1 的圆s,深度选择拉伸到曲面
E.曲线阵列
8.参考阵列
    参考阵列一般情况下都是呈不可用状态,除非它所阵列的对象和先前已有阵列的源实体有定位尺寸关系。
    当你选择要阵列的特征与先前阵列的特征有定位尺寸关系时,系统会默认进入参考阵列,如果你不需要参考阵列,可下拉菜单选择其它阵列方式。
    
9.点阵列
     点阵列操作界面,如下图所示
    草绘的参考点只能存在于二维空间中,而我们创建的基准点则可以是三维空间中的点。点阵列就是通通参p点的位置来确定阵列成员的位置,操作简单,值得注意的是草绘参考点,一定要选择基准里面的点工具,方能阵列。
用参考阵列须注意的是:草绘小圆柱的截面时,要以基准点作为截面圆心。
如果使用点阵列,那么草绘参考点时选择需要的基准点作为参考即可。
    这是八种阵列方式,最后留一道题给大家思考


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